B 支持膜 產(chǎn)品展示
多孔氮化硅膜窗口（Holy Silicon Nitride TEM Grids）
多孔氮化硅膜窗口（陣列孔薄膜），3mm直徑的外框架(其厚200um)，內(nèi)有0.5*0.5mm大小的窗口！我們使用先進(jìn)的MEMS技術(shù)，生產(chǎn)出的多孔氮化硅膜（微陣列孔膜），膜厚度200 nm，多孔膜區(qū)域達(dá)0.45*0.45mm大小，膜耐酸、堿和溶劑，耐受高溫實(shí)驗(yàn)(高達(dá)1000°C)。
超薄連續(xù)碳膜
沒(méi)有方華膜（Formvar）支撐，在蕾絲碳膜上鍍一層更薄的碳膜（厚度小于3nm），是可用的最薄純碳支持膜
GIG純碳陣列微柵膜
該產(chǎn)品與C-FLAT類(lèi)似：微孔尺寸相同、排列一致，支持膜純凈、無(wú)任何有機(jī)層（參考以下圖片），國(guó)產(chǎn)中的精品
X-ray應(yīng)用薄膜窗口（X-Ray Windows）
有兩種薄膜，低應(yīng)力lpcvd氮化硅膜具很強(qiáng)機(jī)械強(qiáng)度，適合高溫和差壓環(huán)境；G-FLAT?氧化硅膜平坦無(wú)褶皺，非常適合x(chóng)射線顯微鏡和需要無(wú)氮?dú)獗尘暗姆治觥?/span>
純硅窗口Pure Silicon Windows
純硅膜的厚度有5nm, 9nm, 15nm, 35nm，利用濺射沉積純硅，允許對(duì)含氮和/或碳的樣品進(jìn)行元素分析。單晶純硅具有<1-0-0>取向，制作35 nm的薄膜，用于衍射研究和其它需要從單晶薄膜中獲得均勻的背景應(yīng)用，。無(wú)孔硅薄膜輕微起皺，大約100微米間距有5微米或更少的偏轉(zhuǎn)，這對(duì)于高分辨率成像來(lái)說(shuō)通常是沒(méi)有問(wèn)題的。納米多孔硅Nanoporous采用P30膜使多孔窗口更加多孔，孔徑一般在10-60納米范圍。
方華膜（Formvar Film）
單純的一層方華樹(shù)脂膜，厚度可以選擇，標(biāo)準(zhǔn)厚度～10nm。如果需要其他厚度的方華膜，請(qǐng)來(lái)電咨詢，還有可選厚度，5-6nm，15-20nm，25-50nm；載網(wǎng)的材質(zhì)也可以選擇，比如鎳網(wǎng)、金網(wǎng)等等；載網(wǎng)的孔型也可以選擇，比如方孔、六邊孔，發(fā)現(xiàn)者載網(wǎng)等等
